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商机信息
信息标题 脉冲激光沉积装置报价-沈阳鹏程有限公司-脉冲激光沉积装置
发布时间 2020-12-16
脉冲激光沉积选件介绍激光分子束外延(Laser MBE )激光MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，脉冲激光沉积装置报价，高真空下的PLD 与在线工艺监测的反射高能电
信息标题 电子束镀膜机价格-电子束镀膜机-沈阳鹏程有限公司
发布时间 2020-12-15
电子束蒸发镀膜机是由哪些部分组成的？以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电子束产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！设备组成：设备由薄膜沉积室、真空获得系统、真
信息标题 气相化学沉积设备-沈阳鹏程公司-气相化学沉积设备报价
发布时间 2020-12-15
PCVD与传统CVD技术的区别以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产化学气相沉积，欢迎新老客户莅临。PCVD与传统CVD技术的区别在于等离子
信息标题 磁控溅射设备报价-沈阳鹏程有限公司-磁控溅射设备
发布时间 2020-12-15
溅射镀膜的特点溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。溅射镀膜与真空镀膜相比，有如下特点:1.任何物质都可以溅射， 尤其是高熔点金属
信息标题 磁控溅射镀膜设备厂家-沈阳鹏程-磁控溅射镀膜设备
发布时间 2020-12-14
磁控溅射镀膜设备的主要用途 沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商，磁控溅射镀膜设备多少钱，我们为您带来以下信息。 1.各种功能性的薄
信息标题 激光脉冲沉积设备公司-激光脉冲沉积设备-沈阳鹏程公司
发布时间 2020-12-14
pld 主要选件离子辅助沉积 (ibad)系统介绍离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld
信息标题 单靶磁控溅射仪厂家-单靶磁控溅射仪-沈阳鹏程真空技术
发布时间 2020-12-14
磁控溅射——溅射技术介绍直流溅射法：直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料。因为轰击绝缘靶材时，表面的离子电荷
信息标题 无锡电子束蒸发镀膜设备-沈阳鹏程(推荐商家)
发布时间 2020-12-13
电子束镀膜设备介绍 以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。 电子束蒸镀（electron beam evaporati
信息标题 多靶磁控溅射仪-多靶磁控溅射仪厂家-沈阳鹏程(推荐商家)
发布时间 2020-12-13
自动磁控溅射系统概述带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，***真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 to
信息标题 沈阳鹏程公司-等离子化学气相沉积设备价格
发布时间 2020-12-13
化学气相沉积技术在材料制备中的使用化学气相沉积技术生产多晶/非晶材料膜：化学气相沉积法在半导体工业中有着比较广泛的应用。比如作为缘介质隔离层的多晶硅沉积层。在当代，微型电子学元器件中越来越多的
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