激光分子束外延(laser mbe )
激光mbe 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，脉冲激光沉积装置报价，高真空下的pld 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（rheed）的联合应用，脉冲激光沉积装置，用户提供了类似于mbe 的薄膜生长的单分子水平控制。
正确的设计是成功使用rheed 和pld 的重要因数
rheed 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，pld 采用较高的压力，差动抽气是---的，
维持rheed 枪的工作压力，同时保持500 mtorr 的pld 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是---的。neocera 的激光mbe 系统可以为用户提供在压力达到500 mtorr 时所需的单分子层控制。
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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，脉冲激光沉积装置厂家，从而形成薄膜。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，---物薄膜，金属薄膜，脉冲激光沉积装置，磁性材料等。
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离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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