? 真空不锈钢腔体
? 可集成热蒸发源或溅射源
? 可旋转的耐氧化基片加热台
? 流量计或针阀准确控制气体流量
? 标准真空计? 干泵与分子泵
? 可选配不锈钢快速进样室
? 可选配基片-靶材距离自动控制系统
? 是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备
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离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统,激光脉冲沉积装置价格,该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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