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溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，上海高真空电子束镀膜机，在产品表面凝聚形成薄膜。
用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。
目前运用较多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作比较简单的一种，所以运用非常广。
电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，高真空电子束镀膜机多少钱，灯丝可以隐藏，高真空电子束镀膜机，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。
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采用了真空密封技术，---真空度高，蒸发室可进入10-5pa量级（≤5×10-5pa电子枪静止状态），可---更高的镀膜纯净度，提高镀膜。
真空密封主要采用如下技术：玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等，整机主要采用金属密封技术，前开门用氟胶圈，真空管路用不锈钢金属波纹管路（不用橡胶管路），采用高真空阀门。
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