等离子化学气相沉积设备公司-沈阳鹏程-等离子化学气相沉积设备

化学气相沉积技术的使用

生产晶须：

晶须属于一种以为发育的单晶体，它在符合材料范畴中有着很大的作用，等离子化学气相沉积设备厂家，能够用于生产一些新型复合材料。 化学气相沉积法在生产晶须时使用的是金属卤化物的氢还原性质。化学气相沉积法不但能制备出各类金属晶须，等离子化学气相沉积设备公司，同时也能生产出化合物晶须，比如氧化铝、金刚砂、碳化钛晶须等等。

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化学气相沉积技术在材料制备中的使用

化学气相沉积技术生产多晶/非晶材料膜：

化学气相沉积法在半导体工业中有着比较广泛的应用。比如作为缘介质隔离层的多晶硅沉积层。在当代，等离子化学气相沉积设备，微型电子学元器件中越来越多的使用新型非晶态材料，这种材料包括磷硅玻璃、硼硅玻璃、sio2以及 si3n4等等。此外，也有一些在未来有可能发展成开关以及存储记忆材料，例如氧化铜-氧化铜等都可以使用化学气相沉积法进行生产。

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