很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>;100 torr）下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到---压力。这也有益于纳米粒子的生成。
pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜的影响，脉冲激光沉积装置公司，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，脉冲激光沉积装置多少钱，对沉积条件进行较大的控制。
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有---的保成分性；
2. 沉积速率高，试验周期短，脉冲激光沉积装置，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；
3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有---；
4. 发展潜力---，具有---的兼容性；
5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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设备主要用途
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
设备优点
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
设备主要组成
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
脉冲激光沉积装置公司-沈阳鹏程有限公司-脉冲激光沉积装置由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”就选沈阳鹏程真空技术有限责任公司，公司位于：沈阳市沈河区凌云街35号，多年来，沈阳鹏程坚持为客户提供好的服务，联系人：董顺。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。沈阳鹏程期待成为您的长期合作伙伴！
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