激光脉冲沉积设备公司-沈阳鹏程-激光脉冲沉积设备

脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，激光脉冲沉积设备厂家，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，激光脉冲沉积设备报价，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，激光脉冲沉积设备，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，高到1200度;

4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，激光脉冲沉积设备公司，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种真空位移台，磁力传输杆，真空法兰，真空密封垫圈，真空用波纹管等;

pld脉冲激光沉积系统介绍

pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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