脉冲激光沉积装置-沈阳鹏程公司-脉冲激光沉积装置

pld450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

---真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，脉冲激光沉积装置公司，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）

脉冲激光沉积的原理

脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，脉冲激光沉积装置，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，---物薄膜，脉冲激光沉积装置，金属薄膜，脉冲激光沉积装置价格，磁性材料等。

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