350型四源有机无机热蒸发镀膜机供应-沈阳鹏程

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    2020-11-20

董顺
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zf500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等,半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标:

---真空度4×10-5pa,系统漏率:1.2×10-7pal/s; 恢复真空时间:40分钟可达6.0×10 pa-4

真空室:d形真空室,单室有机无机热蒸发镀膜机供应,尺寸350× 400mm

样品台:尺寸为4英寸4平面样品;

有机束源炉:数量:4支,有机无机热蒸发镀膜机供应,标准型600度控温;

样品架:安装加热炉。基片的温度从室温至600℃(硅片上表面的温度,只需标定一次即可)

4套挡板系统:动密封手动控制;

样品挡板(1套),磁力拨叉,

膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999? 

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300c有机无机联合蒸发

主要用途:   

用于制备导电薄膜,半导体薄膜,铁电薄膜,光学薄膜等。   

系统组成:   

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。   

技术指标:   

---真空度:≤6.7×10 pa   

恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min   

系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;   

真空室:ф400 x400mm圆筒型真空室 ,   

蒸发源:1-4个,采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。  

蒸发温度:加热温度:室温~1800℃;   

蒸发舟在距中心100~160mm的圆周上;蒸发舟可上下升降,多源有机无机热蒸发镀膜机供应,调节幅度0~150mm(样品中心与坩埚距离150~300mm);  

工作架类型及尺寸:样品托盘直径φ300mm,其上可放多个直径20mm的小样品;样品托盘具有自转功能,转速在0~20 转/分钟,转速可调;样品托盘可摆角,角度在0~30度可调;   

烘烤温度:400℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到700℃)   

电阻蒸发源:电压5v,10v,功率2.5kw,水冷电极1~4对   

石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?

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parylene裂解仪

parylene用---的真空气相沉积工艺(cvd技术)制备,由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边,号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,甚至被业内称为当今的防潮、防霉(零级)、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有---的生物兼容性,生物稳定性,并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。

1.一腔体,采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm,腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台,可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦,抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。

4. 控制系统,采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器,系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择recipe 。

5. 附属冷凝机,温度 ≦ -90℃

期望大家在选购电阻热蒸发镀膜产品时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关,欢迎拨打图片上的热线电话!!!



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