产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,单室有机无机热蒸发镀膜机定做,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小,单室有机无机热蒸发镀膜机定做,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。
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通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史悠久的pvd镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发cd、pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。
在高真空下,采用电阻式蒸发原理,多源有机无机热蒸发镀膜机定做,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oc的金属薄膜的制备。
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广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等,半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标:
---真空度4×10-5pa,系统漏率:1.2×10-7pal/s; 恢复真空时间:40分钟可达6.0×10 pa-4
真空室:d形真空室,尺寸350× 400mm
样品台:尺寸为4英寸4平面样品;
有机束源炉:数量:4支,标准型600度控温;
样品架:安装加热炉。基片的温度从室温至600℃(硅片上表面的温度,只需标定一次即可)
4套挡板系统:动密封手动控制;
样品挡板(1套),磁力拨叉,
膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?
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