沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s
3. 系统从---开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa
5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，ck450a磁控溅射沉积系统多少钱，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；
10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680l/s ，德国普发hipace700分子泵）；1台机械泵（4l/s） ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，全自动磁控溅射沉积系统多少钱，cc150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，
11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有---的技术，我们都以为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣，欢迎---左右两侧的在线，或拨打咨询电话。
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，磁控溅射沉积系统多少钱，以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（cvd）或金属有机
（4）化学气相沉积（cvd）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
（5） 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
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设备简介
主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内---的配置，800型磁控溅射沉积系统多少钱，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到---地保障。 目前该系列有基本型、---型、---型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只φ2英寸永磁靶，4台500w直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。
磁控溅射沉积系统多少钱-沈阳鹏程有限公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司是辽宁 沈阳 ,成型设备的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在沈阳鹏程---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈，共创沈阳鹏程美好的未来。
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