钙钛矿热蒸发镀膜机公司-钙钛矿热蒸发镀膜机-沈阳鹏程

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    2020-11-3

董顺
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300c有机无机联合蒸发

主要用途:   

用于制备导电薄膜,半导体薄膜,钙钛矿热蒸发镀膜机,铁电薄膜,光学薄膜等。   

系统组成:   

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。   

技术指标:   

---真空度:≤6.7×10 pa   

恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min   

系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;   

真空室:ф400 x400mm圆筒型真空室 ,   

蒸发源:1-4个,采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。  

蒸发温度:加热温度:室温~1800℃;   

蒸发舟在距中心100~160mm的圆周上;蒸发舟可上下升降,调节幅度0~150mm(样品中心与坩埚距离150~300mm);  

工作架类型及尺寸:样品托盘直径φ300mm,其上可放多个直径20mm的小样品;样品托盘具有自转功能,转速在0~20 转/分钟,钙钛矿热蒸发镀膜机销售,转速可调;样品托盘可摆角,角度在0~30度可调;   

烘烤温度:400℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到700℃)   

电阻蒸发源:电压5v,10v,功率2.5kw,水冷电极1~4对   

石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?

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oled有机无机联合蒸发系统介绍

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oled有机无机联合蒸发系统的用途 :

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室,将真空蒸发系统工作室置于glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中,pvd与glove box硬件无缝对接,操控融合一体,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域



有机无机蒸发镀膜仪

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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构,主要由二个有机材料生长室组成,两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接,其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口,能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。



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