主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，钙钛矿热蒸发镀膜机，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
---真空度：≤6.7×10 pa
恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；
真空室：ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5v，10v，功率2.5kw，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，pvd与glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构，主要由二个有机材料生长室组成，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。
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