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直流磁控溅射技术其原理是:在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作,降低薄膜污染的倾向;另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上---薄膜的。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。
实用性:设备集成度高,多靶磁控溅射仪,结构紧凑,占地面积小,可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件;通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换,实现一机多用;
方便性:设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接线及安装调试简单,既---了设备使用方便又---了设备的整洁;
---:设备主要零部件采用进口或国内品牌,以国产设备的价格拥有进口设备的配置,从而---了设备的及性能;
安全性:独立开发的plc+触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能,---了设备的使用安全性能;
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用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体(如陶瓷),则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容,多靶磁控溅射仪价格,这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难---采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。
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