主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
---真空≤610-4pa，工作压力≤2*10-3pa；
系统漏率≤6.7×10-7pal/s。
镀膜室：腔室尺寸约为φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构，主要由二个有机材料生长室组成，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，有机无机热蒸发镀膜机厂家，能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史悠久的pvd镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发cd、pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，有机无机热蒸发镀膜机，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oc的金属薄膜的制备。
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