脉冲激光沉积设备-沈阳鹏程有限公司-脉冲激光沉积设备

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    2020-10-13

董顺
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常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势:

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,pla),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,脉冲激光沉积设备报价,得到沉淀或者薄膜的一种手段。

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,脉冲激光沉积设备,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外,pld 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(a°/pulse)。

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