脉冲激光沉积系统特点及优势：
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供---技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续，脉冲激光沉积设备， 交货期短，---；
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脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，pla），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，脉冲激光沉积设备报价，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，脉冲激光沉积设备，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（a°/pulse）。
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