钙钛矿热蒸发镀膜机多少钱-钙钛矿热蒸发镀膜机-沈阳鹏程

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    2020-10-12

董顺
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多源蒸发系统介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司供应电阻热蒸发镀膜产品,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

主要用途:  

系统主要用来生长el oel分子有机电致发光器件薄膜的研究工作  

统组成:  

该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备,采用直线式结构,由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成,金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接,样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。  



zf450型全自动热蒸发镀膜机

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻器热蒸发镀膜供货商,我们为您提供下列信息内容。

选用3~8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于---院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取---作用塑料薄膜、蒸镀电级等,非常合适opv/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学el、oled显示信息科学研究与开发设计行业。

1.前开关门真空内腔,钙钛矿热蒸发镀膜机公司,便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养;

2.1200l/s分子泵做为主抽泵,真空限达到5×10-5pa; 

另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵,真空限达到 3×10-6pa;

3. 组水冷器蒸发电级,可长期平稳工作中,适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案,

源间有避免交叉式环境污染挡板;

4. 真空蒸发开关电源,恒流电源/恒输出功率---。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用;

5.较大120mm基片/15~25mm ito/fto夹层玻璃25片,可订制一体化高精密刻蚀掩膜板;

6.基片台自转,转速比0~25rpm持续可调式;

7. 衬底可挑选加温或水冷散热,钙钛矿热蒸发镀膜机销售,源基距较大350mm;

8. 选用進口膜厚---仪在线监控和---蒸发速度、膜厚;

9. 可堆积金属材料(au, ag, al, ca,钙钛矿热蒸发镀膜机, cu, mg, fe, cr, ni等)、非金属材料、化学物质(moo3, lif等)

及有机化合物材料, 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜;

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双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1、此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,钙钛矿热蒸发镀膜机多少钱,用于导电材料的溅射镀膜

2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。

3、该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。

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