沈阳鹏程真空技术有限责任公司供应电阻热蒸发镀膜产品,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
主要用途:
系统主要用来生长el oel分子有机电致发光器件薄膜的研究工作
系
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选用3~8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于---院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取---作用塑料薄膜、蒸镀电级等,非常合适opv/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学el、oled显示信息科学研究与开发设计行业。
1.前开关门真空内腔,钙钛矿热蒸发镀膜机公司,便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养;
2.1200l/s分子泵做为主抽泵,真空限达到5×10-5pa;
另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵,真空限达到 3×10-6pa;
3. 组水冷器蒸发电级,可长期平稳工作中,适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案,
源间有避免交叉式环境污染挡板;
4. 真空蒸发开关电源,恒流电源/恒输出功率---。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用;
5.较大120mm基片/15~25mm ito/fto夹层玻璃25片,可订制一体化高精密刻蚀掩膜板;
6.基片台自转,转速比0~25rpm持续可调式;
7. 衬底可挑选加温或水冷散热,钙钛矿热蒸发镀膜机销售,源基距较大350mm;
8. 选用進口膜厚---仪在线监控和---蒸发速度、膜厚;
9. 可堆积金属材料(au, ag, al, ca,钙钛矿热蒸发镀膜机, cu, mg, fe, cr, ni等)、非金属材料、化学物质(moo3, lif等)
及有机化合物材料, 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜;
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,钙钛矿热蒸发镀膜机多少钱,用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。
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