电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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1、样品台：水冷样品座，电子束蒸发镀膜设备厂家，样品座高度可调，便于调整蒸距。调节范围：样品台与基片的可调节范围300mm.
2、电子枪：电子枪功率6kw可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果好）。为保持e型电子枪蒸发绝缘稳定性，配制---束流扫描控制器，具有多种供控制程序进行选择的预设模式，方便于操作、实验数据积累。配套相应蒸发坩埚内衬，以适应不同材料，---蒸发速率稳定性，重复性.
电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，无锡电子束蒸发镀膜设备，维修方便，电子束蒸发镀膜设备，蒸发速度可以随意控制，电子束蒸发镀膜设备公司，材料分解小，膜密度高。机械强度好。
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