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脉冲激光沉积系统配置:
生长室,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压rheed,工作气压可达100pa可预留法兰,用于leed,激光脉冲沉积设备,k-cell, e-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,激光脉冲沉积设备厂家,掩膜系统等。
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设备主要用途
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术,用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结,也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
设备优点
设备全程采用一键式操作抽气,关机,激光脉冲沉积设备报价,程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀,插板阀人工开启。
设备主要组成
设备由沉积腔室(单室球形或圆筒形)、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。
激光脉冲沉积设备厂家-激光脉冲沉积设备-沈阳鹏程真空技术公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司位于沈阳市沈河区凌云街35号。在市场经济的浪潮中拼博和发展,目前沈阳鹏程在成型设备中享有---的声誉。沈阳鹏程取得商盟,我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。沈阳鹏程全体员工愿与各界有识之士共同发展,共创美好未来。
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