钙钛矿热蒸发镀膜机价格-沈阳鹏程-钙钛矿热蒸发镀膜机

有机热蒸发镀膜机介绍

技术指标：

1. 真空室的---真空度达5*10-5pa，钙钛矿热蒸发镀膜机，漏率为关机12小时≤5pa

2. 真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动控制，开关方便快捷，钙钛矿热蒸发镀膜机供应，每个小挡板挡两块30*30mm样片

3. 蒸发源共14套，钙钛矿热蒸发镀膜机销售，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温精度±1℃，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能

4. 金属蒸发源配4台一带一1000w可控硅调压电源，通过铜电极连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，避免交叉污染

5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，可以根据材料及用户需求自行调节

6. 样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，并且通过plc控制步进电机对每个小挡板做16个定位，使机械手推拉小挡板，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm

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多源有机无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

---真空度5.0×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa

真空室：d形真空室，尺寸350× 380mm 

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电极：数量：4支水冷结构；直径φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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