脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,---物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
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应用领域:
单晶薄膜外延(srtio3,laalo3)
压电薄膜(pzt,aln,bifeo3,batio3)
铁电薄膜(batio3,kh2po4)
热电薄膜(srtio3)
金属和化合物薄膜电极(ti,ag,au,pt,ni,co,srruo3,lanio3,yzro2,gdceo2,lasrcofeo3)
半导体薄膜(zn(mg)o,aln,srtio3)
高k介质薄膜(hfo2,ceo2,al2o3,batio3,srtio3,pbzrtio3,laalo3,脉冲激光沉积设备公司,ta2o5)
超导薄膜(yba2cuo7-x,bisrcacuo)
光波导,光学薄膜(pzt,aln,batio3,al2o3,zro2,tio2)
超疏水薄膜(ptfe)
红外探测薄膜(v2o5,pzt)
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连续组成扩展(ccs )
常规沉积条件下的组合合成
组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(ccs) 方法。pld-ccs 系统能以连续的方式改变材料,没有---使用掩模。可以在每一次循环中,以小于一个单分子层的速率,脉冲激光沉积设备,快速连续沉积每一种组份,其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。
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