想要了解更多脉冲激光沉积的相关内容，激光脉冲沉积装置报价，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
脉冲激光沉积系统配置：
生长室，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压rheed，工作气压可达100pa可预留法兰，用于leed，k-cell， e-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。
离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，激光脉冲沉积装置厂家，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
想要了解更多脉冲激光沉积的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话进行咨询！
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，激光脉冲沉积装置，欢迎新老客户莅临。
是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。
激光脉冲沉积装置公司-激光脉冲沉积装置-沈阳鹏程由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司位于沈阳市沈河区凌云街35号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前沈阳鹏程在成型设备中享有---的声誉。沈阳鹏程取得商盟，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。沈阳鹏程全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
本文链接：https://tztz307900a2.zhaoshang100.com/zhaoshang/222753320.html
关键词：
滇公网安备 53011202000392号