沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商,我们为您带来以下信息。
设备主要用途
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术,激光脉冲沉积设备报价,用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结,也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
设备优点
设备全程采用一键式操作抽气,关机,激光脉冲沉积设备厂家,程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀,插板阀人工开启。
设备主要组成
设备由沉积腔室(单室球形或圆筒形)、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
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脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心,激光脉冲沉积设备,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关,欢迎拨打图片上的热线电话!!!
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