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脉冲激光沉积设备介绍

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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，脉冲激光沉积装置，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。

脉冲激光沉积选件介绍

激光分子束外延(laser mbe )

激光mbe 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，脉冲激光沉积装置厂家，高真空下的pld 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（rheed）的联合应用，用户提供了类似于mbe 的薄膜生长的单分子水平控制。

正确的设计是成功使用rheed 和pld 的重要因数

rheed 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，pld 采用较高的压力，差动抽气是---的，

维持rheed 枪的工作压力，同时保持500 mtorr 的pld 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是---的。neocera 的激光mbe 系统可以为用户提供在压力达到500 mtorr 时所需的单分子层控制。

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