d型磁控溅射镀膜机公司-沈阳鹏程-磁控溅射镀膜机公司

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    2020-11-22

董顺
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双靶磁控溅射镀膜系统

设备用途:

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的和牢固度。

设备组成

系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(2个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

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双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些?

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产品特点

1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜

2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。

3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,ck300磁控溅射镀膜机公司,操作方便。



线列式磁控生产线

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品,我们为您分析该产品的以下信息。

采用---的in-line产线结构,光纤磁控溅射镀膜机公司,twin-mag孪生阴极磁控溅射技术,并配以全自动控制系统、---的真空系统,可在玻璃衬底上镀制sio2、ito、azo、al、ni、ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜,磁控溅射镀膜机公司,并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构,适合---光学、电学薄膜的生产,做到一机多用具有高能效、高---性、低成本的优势。

     本产品可广泛应用于触摸屏ito镀膜、lcd显示屏ito镀膜、薄膜太阳能电池背电极及azo镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、ar镀膜、装饰镀膜等产业领域。



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