真空磁控溅射镀膜设备厂家-真空磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程

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    2020-11-4

董顺
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磁控溅射介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,今天我们来分享磁控溅射产品的相关内容,希望对同行业的朋友有所帮助!

用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体(如陶瓷),则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容,这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难---采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。



小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商,我们为您带来以下信息。

1. 溅射室---真空度:≤6.6×10-6 pa

2. 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7pa.l/s

3. 系统从---开始抽气:溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa;

4. 系统停泵关机12小时后真空度:≤5pa

5. 溅射真空室1套,立式上开盖结构,真空磁控溅射镀膜设备,尺寸不小于ф300mm×300mm,全不锈钢结构,弧焊接,表面进行电化学抛光,内含防污内衬,可内烘烤到100~150℃,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封,真空磁控溅射镀膜设备,腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套, 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套,样品台可放置不小于100mm样品1片,具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度:室温—500°c连续可调,由热电偶闭环反馈控制,加热电源配备控温表,控温方式为pid自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套,包含:100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路; dn16充气阀、管路、接头等2路;

10. 抽气机组及阀门、管道 1套,包含1台进口复合分子泵及变频控制电源(680l/s ,德国普发hipace700分子泵);1台机械泵(4l/s) ,真空磁控溅射镀膜设备厂家,1台dn40气动截止阀,机械泵与真空室之间的旁抽管路1套,cc150气动闸板阀1台(用于复合分子泵与真空室隔离),节流阀1台,dn40旁抽气阀1台,压差式充气阀1台;管道采用不锈钢三通及波纹管,

11. 安装机台架组件 1套,由方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理,机台表面用不锈钢蒙皮装饰,四只脚轮,可固定,可移动。



什么是磁控溅射?

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,真空磁控溅射镀膜设备价格,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提---离子体密度以增加溅射率。

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