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1、适用范围:适合于各单位实验室、---院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。
2、产品优点及特点:应用于半导体薄膜、硬质涂层等薄膜制备,兼等离子体清洗、等离子体刻蚀。
3、主要用途:主要用来制作sio2、si3n4、非晶si:h、多晶si、sic、w、ti-si、gaas、gasb等介电、半导体及金属膜。
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化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起,nasa 开始尝试使用金属有机化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管,并获得了成功,这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
nasa 使用了c15h21iro6作为制取铱涂层的材料,并利用 c15h21iro6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快,可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm,c15h21iro6的制取效率达 70%以上。
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钯的化学气相沉积pd 及其合金对氢气有着极强的吸附作用以及---的选择渗透性能,化学气相沉积设备,是一种存储或者净---气的理想材料。对于pd 的使用大多是将钯合金或是钯镀层生产氢净化设备 。也有些学者使用化学气相沉积法将钯制成薄膜或薄层。具体做法是使用分解温度极低的金属有机化合物当做制备钯的材料,具体包括:---pd(η-c3h5) (η-c5h5)以及 pd(η-c3h5)(cf3cochcocf3)之类的材料,使用这种方式能够制取出纯度---的钯薄膜。
化学气相沉积设备公司-化学气相沉积设备-沈阳鹏程真空技术由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司是一家从事“电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,---经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“鹏程真空”品牌拥有------。我们坚持“服务为先,用户”的原则,使沈阳鹏程在成型设备中赢得了众的客户的---,树立了---的企业形象。 ---说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!
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