主要用途:
用于制备导电薄膜,半导体薄膜,oled多源蒸发镀膜机,铁电薄膜,光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标:
---真空度:≤6.7×10 pa
恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;
真空室:ф400 x400mm圆筒型真空室 ,
蒸发源:1-4个,采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度:加热温度:室温~1800℃;
蒸发舟在距中心100~160mm的圆周上;蒸发舟可上下升降,调节幅度0~150mm(样品中心与坩埚距离150~300mm);
烘烤温度:400℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到700℃)
电阻蒸发源:电压5v,10v,oled多源蒸发镀膜机销售,功率2.5kw,水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?
技术指标:
1. 真空室的---真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套,oled多源蒸发镀膜机公司,配有大挡板和16套小挡板,手动
3. 蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,4套金属蒸发源。控温
4. 金属蒸发源配4台一带一1000w可控硅调压电源,通过铜电极
5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,
6. 样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装
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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构,主要由二个有机材料生长室组成,两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接,其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口,能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。
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