激光脉冲沉积装置公司-沈阳鹏程-激光脉冲沉积装置

脉冲激光沉积系统的特点有哪些？

?  真空不锈钢腔体

?  可集成热蒸发源或溅射源

?  可旋转的耐氧化基片加热台

?  流量计或针阀准确控制气体流量

?  标准真空计?  干泵与分子泵

?  可选配不锈钢快速进样室

?  可选配基片-靶材距离自动控制系统

?  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备

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脉冲激光沉积简介

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，---是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（pld）技术的特点逐渐被人们认识和接受

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