离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统,脉冲激光沉积设备报价,该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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主要用途:
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
系统组成:
主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,pla),是一种利用激光对物体进行轰击,脉冲激光沉积设备,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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