d型磁控溅射镀膜机供应-磁控溅射镀膜机供应-沈阳鹏程

磁控溅射设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有---的技术，双靶磁控溅射镀膜机供应，我们都以为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣，欢迎---左右两侧的在线，或拨打咨询电话。

（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（cvd）或金属有机

（4）化学气相沉积（cvd）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

（5） 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，磁控溅射镀膜机供应，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，---真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，dc直流和rf射频电源。 在选配方面，d型磁控溅射镀膜机供应，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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