由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种---发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。
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脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，脉冲激光沉积设备多少钱，pla），是一种利用激光对物体进行轰击，脉冲激光沉积设备，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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